臺(tái)式勻膠機(jī)型號(hào)：KWD
（Spin Coater）適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合硅片,晶片,基片,ITO導(dǎo)電玻璃等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。

產(chǎn)品型號(hào)：KWD

更新時(shí)間：2024-02-11

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臺(tái)式勻膠機(jī)型號(hào)：KWD

臺(tái)式勻膠機(jī)

：（Spin Coater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合硅片,晶片,基片,ITO導(dǎo)電玻璃等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。
技術(shù)參數(shù)：旋轉(zhuǎn)速度：200-2000rpm，精度：±0.5%
勻膠時(shí)間：3-60s可調(diào)
基材尺寸：Φ200-Φ600 200mm×200mm～500×500mm
適用材料：硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料

電機(jī)功率：320w
LED數(shù)字顯示：轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度：±0.5%，膠的均勻性：±5%
Z大加速度：加速度：≥500rpm/sec

儀器尺寸：980mm×855mm×855mm

適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合硅片,晶片,基片,ITO導(dǎo)電玻璃等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。
技術(shù)參數(shù)：旋轉(zhuǎn)速度：200-2000rpm，精度：±0.5%
勻膠時(shí)間：3-60s可調(diào)
基材尺寸：Φ200-Φ600 200mm×200mm～500×500mm
適用材料：硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料

電機(jī)功率：320w
LED數(shù)字顯示：轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度：±0.5%，膠的均勻性：±5%
Z大加速度：加速度：≥500rpm/sec
儀器尺寸：980mm×855mm×855mm

上一個(gè)：HP200便攜式氫氣純度儀